CVD(化學(xué)氣相沉積)，是半導(dǎo)體工業(yè)中應(yīng)用最為廣泛的用來(lái)沉積多種材料的技術(shù)，包括大范圍的絕緣材料、大多數(shù)金屬材料和金屬合金材料。那特氣柜是如何參與到CVD技術(shù)的生產(chǎn)過(guò)程中去的呢？

CVD(化學(xué)氣相沉積)是一種化學(xué)氣體或蒸汽在基質(zhì)表面反應(yīng)合成涂層或納米材料的方法，從理論上來(lái)說(shuō)，它是很簡(jiǎn)單的：兩種或兩種以上的氣態(tài)原材料導(dǎo)入到一個(gè)反應(yīng)室內(nèi)，然后他們相互之間發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，形成一種新的材料，沉積到晶片表面上。

因?yàn)镃VD使用的原材料氣體大多是特種氣體，具有一定的危險(xiǎn)性，所以對(duì)這些氣體使用就需要用到特氣系統(tǒng)。沉積氮化硅膜(Si3N4)就是一個(gè)很好的例子，它是由硅烷和氮反應(yīng)形成的，而硅烷（SiH4）是一種在室溫下能著火、在空氣或鹵素氣體中能爆炸性燃燒的劇毒性特種氣體，所以，為保證硅烷安全使用需用到特氣柜。

沃飛WOFLY全自動(dòng)特氣柜（GC）的柜體采用防腐蝕涂層，且板材厚底不得低于2.5mm，同時(shí)配有防爆觀察窗，可以隨時(shí)觀察柜內(nèi)變化；特氣柜的報(bào)警偵測(cè)警報(bào)功能齊全，并在柜門(mén)關(guān)閉情況下，特氣柜內(nèi)部都處于負(fù)壓狀態(tài)，可第一時(shí)間發(fā)現(xiàn)泄漏并阻止泄漏氣體擴(kuò)散；其中包括自動(dòng)吹掃、自動(dòng)切換以及緊急情況下的自動(dòng)安全切斷（當(dāng)設(shè)定報(bào)警信號(hào)被觸發(fā)時(shí)）在內(nèi)的基本功能，也是生產(chǎn)安全和員工人身安全的有力保障。

沃飛WOFLY全自動(dòng)特氣柜（GC）通過(guò)PLC面板，配合觸摸屏進(jìn)行系統(tǒng)顯示和設(shè)定，從而實(shí)現(xiàn)設(shè)備安全有效的運(yùn)行。其內(nèi)部PLC程式設(shè)計(jì)的安全聯(lián)鎖功能、高純閥件的合理選擇和布局，既滿足了CVD(化學(xué)氣相沉積)在生產(chǎn)過(guò)程中對(duì)氣體原材料的高純度和連續(xù)穩(wěn)定供給的要求，也確保了正常生產(chǎn)和員工人身安全。

CVD(化學(xué)氣相沉積)是傳統(tǒng)的制備薄膜的技術(shù)，應(yīng)用廣泛，以上內(nèi)容就是關(guān)于CVD技術(shù)和特氣柜在CVD中所占的一席之地的簡(jiǎn)單介紹，感謝您的閱讀，更多氣體資訊，請(qǐng)關(guān)注我們!